1、CCD/CMOS全谱光谱仪制造技术(数字化技术替代老式体积庞大笨重的光电倍增电子管模拟技术),通道不受限制 ;
2、国际光谱仪技术同步,国内能生产真空CCD/CMOS全谱技术光谱仪的制造商;
3、基体范围内通道改变、增加不需费用
4、升级多基体方便,无须变动增加硬件 ;
5、优良的数据稳定性,同一样品不同的时间段分析,可获得良好的数据一致性 ;
6、体积小、重量轻, 移动安装方便 ;
7、高集成度、高可靠性、高稳定性 ;
主要特点:
1、可测定包括痕量碳(C),磷(P),硫(S)元素,适用于多种金属基体,如:铁基,铝基,铜基,镍基,铬基,钛 基,镁基,锌基,锡基和铅基。全谱技术覆盖了全元素分析范围,可根据客户需要选择通道元素;
2、分析速度快捷,20秒内测完所有通道的元素成分。针对不同的分析材料,通过设置预燃时间及标线,使仪器用短的时间达到优的分析效果;
3、光学系统采用真空恒温光室, 激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空光室,实现光路直通,消除了光路损耗,提高检出限,测定结果准确,重现性及长期稳定性极佳;
4、特殊的光室结构设计,使真空室容积变小;
5、自动光路校准,光学系统自动进行谱线扫描,确保接收的正确性,免除繁琐的波峰扫描工作。仪器自动识别特定谱线,与原存储线进行对比,确定漂移位置,找出分析线当前的像素位置进行测定;
6、开放式的电极架设计,可以调整的样品夹,便于各种形状和尺寸的样品分析;
7、预做工作曲线,可根据需要延伸及扩展范围,每条曲线由多达几十块标样激发生成,计算机自动扣除干扰;
8、HEPS数字化固态光源,适应各种不同材料 ;
9、固态吸附阱,防止油气对光室的污染,提高长期运行稳定性;
10、铜火花台底座,提高散热性及坚固性能;
11、合理的氩气气路设计,使样品激发时氩气冲洗时间缩短,为用户节省氩气;
12、采用钨材料电极,电极使用寿命更长,并设计了电极自吹扫功能,易清洁电极;
13、高性能DSP及ARM处理器,具有高速数据采集及控制功能并自动实时监测光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状况;
14、仪器与计算机之间采用以太网连接,抗干扰性能好,外部计算机升级与仪器配置无关,使仪器具有好的适用性;
15、核心器件原装进口,保证仪器品质。